德国Centrotherm_PECVD设备E2000中文说明书
[摘要] Centrotherm PECVD系统是管式系统，采用平行式石墨舟和低频（40kHz）激发等离子体放电。在低压和高温的条件下，等离子体在石墨舟的石墨惦记之间激发。反应的气体是硅烷和氨气。这些气体反应之后沉积到衬底（硅片）上，形成氮化硅薄膜。薄膜的折射率可以通过调整两种气体的比例而调整。 在沉积薄膜过程中会产生大量的氢原子和离子，这些对硅片的氢钝化效果显著。另外，在烧结过程中薄膜中的大量氢成分会在高温条件下扩散入硅片体内，形成体钝化。 PECVD 氮化硅对硅片具有表面钝化和体钝化双重功能。
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