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  • PECVD技术晶体硅太阳电池的最新进展
    [摘要]   2011第六届亚洲太阳能光伏工业论坛上,中科院电工研究所太阳能电池技术研究室主任王文静,《PECVD技术晶体硅太阳电池的最新进展》。   本站有幸得到了演讲的第一手资料,绝对原版,值得珍藏。   ppt主要内容:   1、并国内生产线的技术水平到底在哪个水平···
    下载说明: 下载次数:61次
  • 2012-03-13
  • 2.18M
  • PECVD沉积氮化硅薄膜应用研究
    [摘要] 采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD) ,在单晶硅衬底上生长氮化硅(SiN) 薄膜,再对薄膜进行快速热退火处理,研究了在不同温度下SiN 薄膜的退火特性. 通过椭圆偏振光仪测量了薄膜厚度和薄膜的折射率,发现退火后薄膜的厚度下降,折射率升高; 采用准稳态光电导衰减QSSPCD ···
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  • 2011-07-20
  • 0.09M
  • PECVD SiNx 薄膜应力的研究
    [摘要] 等离子增强化学气相淀积(P lasma2enhanced Chem ical V aper Depo sit ion, PECVD )SiN x 薄膜在微电子和微机械领域的应用越来越重要. 它的一个重要的物理参数—— 机械应力, 也逐渐被人们所重视. 本文研究了应力跟一些基本的淀···
    下载说明: 下载次数:63次
  • 2011-07-20
  • 0.3M
  • PECVD生长氮化硅介质膜的工艺研究
    [摘要] 对PECVD生长氮化硅介质膜的工艺条件进行了实验研究,获得了生长氮化硅介质膜的最佳工艺条件,制作出了高质量的氮化硅质膜.
    下载说明: 下载次数:192次
  • 2009-05-04
  • 0.19M
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