刻蚀工序培训
[摘要] 刻蚀的目的和原理 刻蚀目的：去除边缘PN结，防止短路 刻蚀原理： ①4HNO3 +3Si=3SiO2 +4NO+2H 2 O ②SiO2 +6HF=H2 ［SiF 6 ］+2H 2O 去PSG（磷硅玻璃）原理： SiO2 + 4HF → SiF 4 ↑ +2H 2 O SiF4 + 2HF → H 2［SiF6］
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