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多晶硅片酸腐蚀制绒面技术
[摘要] 因为在切割好的多晶硅片和抛光后的单晶硅片的过程中所产生的损伤会被酸性混合溶液腐蚀。该混合物中包括氢氟酸,硝酸,与去离子水,而磷酸或硫酸则作为稀释剂。在腐蚀刚开始的阶段,因为硅片切割时产生的表面裂缝,转化深和长的坑。这种坑所产生的反射是很低的。然而,由于进行酸腐蚀损坏的表面区域之外···
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- 2013-08-15
- 0.52M
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硅片表面大面积电镀金属
[摘要] 硅片表面大面积电镀金属
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- 2013-06-09
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对电池硅片磷扩散的了解
[摘要] 对电池硅片磷扩散的了解
下载说明: 下载次数:23次
- 2013-06-09
- 0.54M
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PECVD技术简述
[摘要] PECVD借助于气体辉光放电产生的低温等离子体,增强 反应物质的化学活性,促进了气体间的化学反应,从而低温 下也能在基板上形成新的固体膜。
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- 2013-05-28
- 0.24M
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硅片厚度对多晶硅太阳电池性能的影响
[摘要] 硅片厚度对多晶硅太阳电池性能的影响
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- 2013-05-08
- 0.16M
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国内外225家太阳能硅片厂商
[摘要] 国内外225家硅片厂商
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- 2013-03-29
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一种通用硅片承接盒
[摘要] 一种通用硅片承接盒
下载说明: 下载次数:7次
- 2013-02-17
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如何控制和提高单晶硅片的质量
[摘要] 如何控制和提高单晶硅片的质量
下载说明: 下载次数:26次
- 2013-01-16
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