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  • 智能变电站信息采集及应用(许继电气)part1
    [摘要] 变电站业务需求的变化和一次设备、通信网络技术的进步,坚强智能电网的建设,驱动了变电站一、二次设备技术的融合,以及变电站运行方式的变革,由此产生了——“智能变电站”。
    下载说明: 下载次数:44次
  • 2012-06-26
  • 5.94M
  • LinkSwitch-PH系列LED驱动器IC数据手册
    [摘要] LinkSwitch-PH可大幅简化要求功率因数(PF)大于0.9、具备可控硅调光功能的高效率LED驱动器的设计。单级PF和恒流控制器可省去功率因数校正所需的无源电路以及大容量电解电容。
    下载说明: 下载次数:22次
  • 2012-06-26
  • 1.76M
  • 基于MSP430的心电图的低成本心率监测
    [摘要] 这篇应用报告描述了一种低成本,基于MSP430™ LaunchPad Value Line开发工具包(MSP-EXP430G2)的监测心率解决方案此开发工具包使用MSP430G2xx微控制器(MCU)。
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  • 2012-06-26
  • 0.75M
  • UPS不间断电源工作原理及应用说明
    [摘要] 保证任何情况下的正常供电,是冶金行业的重要基础。为此,除工业电网正常供电外,还需配备UPS供电系统。UPS电源是保障供电稳定和连续性的重要设备,因其主要机智能化程度高,储能器材采用免维护蓄电池
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  • 2012-06-26
  • 0.09M
  • 低成本PLC控制系统的配置方案
    [摘要] 采用0MRON公司的可编程控制器CPM1A来控制水泥厂箱式脉低成本PLC控制系统的配置方案。
    下载说明: 下载次数:11次
  • 2012-06-26
  • 0.48M
  • 三菱PLC及变频器在水厂的应用
    [摘要] 文通过分析自来水厂对控制系统的功能要求,主要介绍 三菱PLC及变频器在水厂的应用
    下载说明: 下载次数:63次
  • 2012-06-26
  • 0.57M
  • PECVD 沉积氮化硅薄膜在退火过程中的特性变化
    [摘要]  采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD) ,在单晶硅衬底上生长氮化硅(SiN) 薄膜,再对薄膜进行快速热退火处理,研究了在不同温度下SiN 薄膜的退火特性. 通过椭圆偏振光仪测量了 薄膜厚度和薄膜的折射率,发现退火后薄膜的厚度下降,折射率升高; 采用准稳态光电导衰减QSSP···
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  • 2012-06-20
  • 0.09M
  • NIP型非晶硅薄膜太阳能电池的研究
    [摘要] 采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF2PECVD)技术制备非晶硅(a2Si)NIP 太阳能电池,其中电池的窗口层采用P 型晶化硅薄膜,电池结构为Al/ glass/ SnO2 / N(a2Si :H) / (a2Si :H) / P(cryst2Si : H) / ITO/ A···
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  • 2012-06-20
  • 0.39M
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